Presentazione

Organizzazione della Didattica

DM270
SCIENZA DEI MATERIALI

Tecniche per il vuoto e film sottili

6

Corsi comuni

 

Frontali Esercizi Laboratorio Studio Individuale
ORE: 24 0 36 86

Periodo

AnnoPeriodo
III anno1 semestre

Frequenza

Obbligatoria

Erogazione

Convenzionale

Lingua

Italiano

Calendario Attività Didattiche

InizioFine
01/10/201325/01/2014

Tipologia

TipologiaAmbitoSSDCFU
affine/integrativo Nessun ambitoFIS/036


Responsabile Insegnamento

ResponsabileSSDStruttura
Dott. PALMIERI VINCENZON.D.

Altri Docenti

Non previsti

Attività di Supporto alla Didattica

Non previste

Bollettino




Flusso di Gas attaverso canalizzazioni: Regimi di flusso Conduttanza ed impedenza Flusso di gas in stato viscoso Flusso di gas in regime molecolare Conduttanza di una piccola apertura Conduttanza di tubi corti, lunghi e a gomito Materiali per il vuoto: Desorbimento Permeabilita' Solubilita', diffusione e degasamento Il baking di un sistema da vuoto Saldature e brasature da vuoto Materiali e componenti del vuoto Passanti elettrici, rotatori e traslatori Produzione del vuoto: Pompe rotative Zeoliti e trappole Pompe a pistone Pompe a membrana Pompe Trocoidali, Pompe scroll Pompe roots Popme Claw Pompe turbomolecolari Fompe a diffusione Pompe criogeniche Dimensionamento di una camera da vuoto in basso vuoto e in UHV Elementi di Progettazione Le regole auree e gli errori da non fare Misura del vuoto: Vacuometri Pirani Vacuometri a Termocoppia Vacuometri capacitivi Vacuometri penning Vacuometri a ionizzazione Vacuometri Bayard Alpert Analizzatori quadrupolari di massa Ricerca di fughe reali e virtuali Fondamenti di Elettrotecnica La rete trifase Il monofase Collegamenti circuitali Automatismi a Relais, ed applicazione ai sistemi da vuoto Funzionamento di motori ed applicazioni nel PVD Deposizione di films sottili: Fondamenti dello sputtering Sputtering in regime DC, RF, Biased Deposizione per arco Catodico. Film per elettroplating Pulizia dei substrati L’elettropulitura dei substrati Confinamento magnetico di plasmi: Progettazione e costruzione di sorgenti di deposizione. Progettazione di impianti da ultra alto vuoto per la deposizione PVD di films sottili Esercitazione di laboratorio circa le problematiche sperimentali della produzione del vuoto.



Maissel & Glang, Handbook of thin film Technology. : Mac Graw Hill, Maurice H. Francombe and John L. Vossen eds, Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching, Vol. 18 of Physics of Thin Film Series. : Academic Press, 1994 Ferrario, Introduzione alla tecnologia del vuoto. Bologna: Patron Editore,